发明公开
- 专利标题： 介质处理装置及图像形成系统
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申请号： CN202380019159.5申请日： 2023-02-06
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公开(公告)号： CN118647563A公开(公告)日： 2024-09-13
- 发明人: 三品和树 , 佐佐木圭 , 濑户一贵 , 阿部航大
- 申请人： 株式会社理光
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 株式会社理光
- 当前专利权人： 株式会社理光
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 北京纪凯知识产权代理有限公司
- 代理商 张秀芬
- 优先权： 2022-193643 20221202 JP 2022-193643 20221202 JP
- 国际申请： PCT/IB2023/051023 2023.02.06
- 国际公布： WO2023/148689 EN 2023.08.10
- 进入国家日期： 2024-07-29
- 主分类号： B65H37/04
- IPC分类号： B65H37/04 ; G03G15/00 ; H04N1/00
摘要：
介质处理装置包括液体赋予器、压接器和控制器。液体赋予器包括液体赋予构件，以将液体赋予到介质的一部分。压接器用于使包括由所述液体赋予器赋予所述液体的介质的介质束按压并变形，以装订所述介质束。控制器基于所述介质的高度信息，使所述液体赋予构件相对于所述介质移动，以使由所述液体赋予构件赋予所述介质的液体量等于指定量。
