发明公开
- 专利标题: 提高转印适应性和清晰度的碳带组合及其制备和转印方法
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申请号: CN202411003506.8申请日: 2024-07-25
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公开(公告)号: CN118700734A公开(公告)日: 2024-09-27
- 发明人: 吴兴泽 , 莫斌 , 丰检 , 田化银 , 虞雷 , 崔子杰 , 唐国初
- 申请人: 湖南鼎一致远科技发展股份有限公司 , 湖南鼎一智造数字设备科技发展有限公司
- 申请人地址: 湖南省益阳市赫山区衡龙新区工业二路;
- 专利权人: 湖南鼎一致远科技发展股份有限公司,湖南鼎一智造数字设备科技发展有限公司
- 当前专利权人: 湖南鼎一致远科技发展股份有限公司,湖南鼎一智造数字设备科技发展有限公司
- 当前专利权人地址: 湖南省益阳市赫山区衡龙新区工业二路;
- 代理机构: 北京轻创知识产权代理有限公司
- 代理商 厉洋洋
- 主分类号: B41M5/44
- IPC分类号: B41M5/44 ; B41M5/42 ; B41M5/41 ; B41M5/382
摘要:
本发明涉及提高转印适应性和清晰度的碳带组合及其制备和转印方法,涉及热转印技术领域。本发明的碳带组合包括:第一转印碳带、第二转印碳带;第一转印碳带包括自上而下依次设置的背涂层、基材、脱模层、染料接受层、白色遮光层、接着层;第二转印碳带包括包括自上而下依次设置的背涂层、基材、脱模层、染料接受层。本发明制备的碳带组合和配套的转印工艺可能提高光的反射率,从而提升升华转印后的色密度,使其可在多种材料表面拥有良好的附着力和耐刮性,且能大幅提高转印清晰度。
IPC分类: