Invention Publication
- Patent Title: 一种单模激射VCSEL结构与激光横模控制方法
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Application No.: CN202410880751.0Application Date: 2024-07-02
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Publication No.: CN118712882APublication Date: 2024-09-27
- Inventor: 胡善亭 , 忻向军 , 刘博 , 李虎 , 张立永 , 李承远 , 李佳勋 , 李欣颖 , 董泽 , 高然 , 朱磊 , 田博 , 王富 , 常欢 , 潘晓龙 , 李至瑞 , 张兴臣
- Applicant: 北京理工大学 , 深圳市嘉敏利光电有限公司 , 北京邮电大学
- Applicant Address: 北京市海淀区中关村南大街5号; ;
- Assignee: 北京理工大学,深圳市嘉敏利光电有限公司,北京邮电大学
- Current Assignee: 北京理工大学,深圳市嘉敏利光电有限公司,北京邮电大学
- Current Assignee Address: 北京市海淀区中关村南大街5号; ;
- Agency: 北京正阳理工知识产权代理事务所
- Agent 张利萍
- Main IPC: H01S5/183
- IPC: H01S5/183 ; H01S5/02253 ; H01S5/065

Abstract:
本发明涉及一种单模激射VCSEL结构与激光横模控制方法属于半导体激光器领域。本发明的目的之一是提供一种单模激射VCSEL结构,通过构建相位范围#imgabs0#的超透镜晶格单元,使其组成对光场有汇聚作用的超表面透镜,将VCSEL基模汇聚至焦点处,并且使高阶横模发散。在单模激射VCSEL结构基础上,本发明目的之二是提供一种单模激光模式选择方法,通过超表面透镜以及介电质DBR反射,能够使得在基模没有损耗的情况下,滤除掉高阶模式,从而实现在不损伤基模功率的情况下,对VCSEL的高阶横模进行抑制,实现基模高功率稳定单模输出。本发明的目的之三是提供一种用于横模控制的VCSEL结构的制备方法,用于制备所述一种激光模式选择的VCSEL。本发明能够减小基模激光的损耗,提高VCSEL功率。
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