发明公开
- 专利标题： 聚碲氧烷在非化学放大型光刻胶中的应用
-
申请号： CN202411296105.6申请日： 2024-09-14
-
公开(公告)号： CN118938603A公开(公告)日： 2024-11-12
- 发明人: 许华平 , 奈舍·马克 , 周睿豪 , 曹木青 , 谭以正
- 申请人： 清华大学 , 上海清华国际创新中心
- 申请人地址： 北京市海淀区清华园1号;
- 专利权人： 清华大学,上海清华国际创新中心
- 当前专利权人： 清华大学,上海清华国际创新中心
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区清华园1号;
- 代理机构： 北京清亦华知识产权代理事务所
- 代理商 尹璐
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/00 ; C08G79/00
摘要：
本发明公开了聚碲氧烷在非化学放大光刻胶中的应用，该聚碲氧烷具有Te‑O链。其中Te元素对EUV的高吸收以及特殊的Te‑O主链，旨在实现优异的UV光刻(I‑line、KrF、ArF等)、电子束光刻和EUV光刻性能，尤其是解决兼顾高灵敏度、高分辨率、低线边缘粗糙度的EUV光刻胶难题。
IPC分类:
