Invention Publication
- Patent Title: 用于清洁设备的清洁基站和清洁系统
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Application No.: CN202310798167.6Application Date: 2023-06-30
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Publication No.: CN118986213APublication Date: 2024-11-22
- Inventor: 江旭 , 王贤杰 , 吴兴阁 , 罗敏祥 , 赵航 , 殷雪冰
- Applicant: 江苏美的清洁电器股份有限公司 , 美的集团股份有限公司
- Applicant Address: 江苏省苏州市相城经济开发区漕湖大道39号;
- Assignee: 江苏美的清洁电器股份有限公司,美的集团股份有限公司
- Current Assignee: 江苏美的清洁电器股份有限公司,美的集团股份有限公司
- Current Assignee Address: 江苏省苏州市相城经济开发区漕湖大道39号;
- Agency: 北京励诚知识产权代理有限公司
- Agent 刘继昂
- Priority: 2023105798958 20230522 CN
- Main IPC: A47L11/40
- IPC: A47L11/40 ; A61L9/22

Abstract:
本发明公开了一种用于清洁设备的清洁基站和清洁系统,清洁设备具有设备风道,清洁基站包括基站底座和除菌模块,基站底座形成有基站风道,在清洁设备与清洁基站配合时,基站风道与设备风道配合且适于连通以形成除菌风道;除菌风道具有除菌进风口和除菌出风口,除菌进风口以及除菌出风口均与外部环境连通;除菌模块安装于基站底座,且位于基站风道的流动路径上。根据本发明实施例的清洁基站,除菌风道与外部环境连通构成开放性的除菌风道,通过除菌模块对设备风道进行除菌,使得除菌风道内可以补充新鲜空气,进一步地减小设备风道内的异味;外部环境中的气流进入除菌风道内除菌后再排出至外部环境中,这样可以实现对外部环境中的空气进行除菌。
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