Invention Publication
- Patent Title: 用于清洁设备的清洁基站和清洁系统
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Application No.: CN202310798548.4Application Date: 2023-06-30
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Publication No.: CN118986214APublication Date: 2024-11-22
- Inventor: 江旭 , 林祥 , 赵航
- Applicant: 江苏美的清洁电器股份有限公司 , 美的集团股份有限公司
- Applicant Address: 江苏省苏州市相城经济开发区漕湖大道39号;
- Assignee: 江苏美的清洁电器股份有限公司,美的集团股份有限公司
- Current Assignee: 江苏美的清洁电器股份有限公司,美的集团股份有限公司
- Current Assignee Address: 江苏省苏州市相城经济开发区漕湖大道39号;
- Agency: 北京励诚知识产权代理有限公司
- Agent 刘继昂
- Priority: 2023105798958 20230522 CN 2023105799039 20230522 CN 2023212477181 20230522 CN 2023212466914 20230522 CN
- Main IPC: A47L11/40
- IPC: A47L11/40 ; A61L9/22

Abstract:
本发明公开了一种用于清洁设备的清洁基站和清洁系统,清洁基站包括基站底座和除菌模块,基站底座具有第一进风口、第一出风口以及基站风道,基站风道连通第一进风口与第一出风口;除菌模块安装于基站底座且位于基站风道的流动路径上,除菌模块暴露于外部环境中;其中,清洁设备具有第二进风口、第二出风口以及设备风道,设备风道连通第二进风口与第二出风口,在清洁设备与清洁基站配合时,第一出风口与第二进风口连通以形成除菌风道。根据本发明实施例的清洁基站,除菌模块可以对基站风道内的气流进行除菌,并且可以实现对除菌风道进行除菌,解决清洁设备细菌滋生的问题;另外,通过除菌模块暴露于外部环境中,可以增强除菌模块的维护便利性。
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