Invention Publication
- Patent Title: 一种岩溶发育深度特征分析方法及系统
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Application No.: CN202411650806.5Application Date: 2024-11-19
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Publication No.: CN119438033APublication Date: 2025-02-14
- Inventor: 许汉华 , 刘文连 , 眭素刚 , 蒙彦 , 李景瑞 , 黄震 , 和祥 , 郭延辉 , 杨志全 , 聂闻 , 沈维 , 李艳林 , 隋旺华 , 董家兴 , 郭国祥
- Applicant: 中国有色金属工业昆明勘察设计研究院有限公司
- Applicant Address: 云南省昆明市盘龙区东风东路东风巷1号
- Assignee: 中国有色金属工业昆明勘察设计研究院有限公司
- Current Assignee: 中国有色金属工业昆明勘察设计研究院有限公司
- Current Assignee Address: 云南省昆明市盘龙区东风东路东风巷1号
- Agency: 重庆律知诚专利代理事务所
- Agent 柘涛
- Main IPC: G01N15/08
- IPC: G01N15/08 ; G01N9/36 ; G01N1/28 ; G01N22/00 ; G01N25/16 ; G01N25/00 ; G01N23/2251 ; G01N23/2202 ; G01N23/223 ; G01N23/20 ; G01N21/84 ; G01S13/88 ; G01V11/00

Abstract:
本发明涉及岩溶研究分析技术领域,尤其是一种岩溶发育深度特征分析方法及系统,所述方法包括如下步骤:获取岩溶地区岩石作为所述岩溶发育深度特征分析的岩石测试样本;对所述岩石测试样本进行实验测试分析得到所述岩溶地区岩石的微观发育特征;基于对所述岩溶地区岩石进行实地测试分析得到所述岩溶地区岩石的宏观发育特征;结合所述微观发育特征和所述宏观发育特征对所述岩溶发育深度特征进行分析。本发明从实验测试分析和实地测试分析两个方面对岩溶地区岩石进行研究分别得到所述岩溶地区岩石的微观发育特征和宏观发育特征,进而对岩溶地区的岩溶发育深度特征进行分析,有助于评估地质的稳定性从而为保障地下工程的安全性提供科学依据。
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