Invention Publication
- Patent Title: 用于半导体光刻的光学元件和投射曝光设备
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Application No.: CN202380051942.XApplication Date: 2023-05-23
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Publication No.: CN119547015APublication Date: 2025-02-28
- Inventor: D·巴德 , M·曼格 , M·拉布 , A·拉巴
- Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- Applicant Address: 德国上科亨
- Assignee: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- Current Assignee: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- Current Assignee Address: 德国上科亨
- Agency: 北京市柳沈律师事务所
- Agent 王蕊瑞
- Priority: 102022116699.6 20220705 DE
- International Application: PCT/EP2023/063765 2023.05.23
- International Announcement: WO2024/008360 DE 2024.01.11
- Date entered country: 2025-01-03
- Main IPC: G03F7/00
- IPC: G03F7/00
Abstract:
本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光系统(1、101)的光学元件(Mx、117)，该光学元件包括基座元件(30)和连接到基座元件(30)的至少一个致动器(40)，其中致动器(40)被设计为环形致动器。本发明还涉及一种用于半导体光刻的投射曝光系统，其设置有对应的光学元件，以及一种光学元件，其包括用于确定光学有效表面的变形的传感器，其中传感器被设计为检测允许与光学有效表面的变形相关的信号。
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