Invention Publication
- Patent Title: 一种用于半导体器件仿真建模的中心晶片的筛选方法
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Application No.: CN202411818918.7Application Date: 2024-12-11
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Publication No.: CN119761278APublication Date: 2025-04-04
- Inventor: 杜江锋 , 刘成艺 , 金海续
- Applicant: 电子科技大学 , 电子科技大学广东电子信息工程研究院
- Applicant Address: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号;
- Assignee: 电子科技大学,电子科技大学广东电子信息工程研究院
- Current Assignee: 电子科技大学,电子科技大学广东电子信息工程研究院
- Current Assignee Address: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号;
- Agency: 电子科技大学专利中心
- Agent 闫树平
- Main IPC: G06F30/333
- IPC: G06F30/333 ; H01L21/66 ; G06F30/367

Abstract:
本发明属于集成电路技术领域,具体涉及一种用于半导体器件仿真建模的中心晶片的筛选方法。本发明通过对整片晶圆进行Mapping测试,获得不同尺寸器件的各种电学参数的中位数,并根据电学参数与对应中位数的误差绝对值对每颗晶片计分,最终分值最高的晶片为中心晶片。本发明未遗漏任何一颗晶片,克服了由工艺波动带来的中心晶片电学参数偏离中位数的问题,赋分筛选更具有典型性;避免了现有方法筛选得到的中心晶片中某些尺寸器件和/或电学参数较大地偏离Mapping数据的中位数值的问题,提高了利用中心晶片电学性能建立TCAD仿真模型的准确性。
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