发明授权
CN1238766C 正型辐射敏感性组合物以及图形的形成方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 正型辐射敏感性组合物以及图形的形成方法
- 专利标题（英）： Positive type radiosensitive composition and method for forming pattern
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申请号： CN02809717.3申请日： 2002-07-19
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公开(公告)号： CN1238766C公开(公告)日： 2006-01-25
- 发明人: 玉木研太郎 , 宇高友广 , 西川昭
- 申请人： JSR株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： JSR株式会社
- 当前专利权人： JSR株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京三友知识产权代理有限公司
- 代理商 丁香兰
- 优先权： 222706/2001 2001.07.24 JP; 352419/2001 2001.11.16 JP
- 国际申请： PCT/JP2002/007343 2002.07.19
- 国际公布： WO2003/010603 JA 2003.02.06
- 进入国家日期： 2003-11-11
- 主分类号： G03F7/075
- IPC分类号： G03F7/075 ; G03F7/039 ; G03F7/004 ; G02B6/12
摘要：
本发明的正型辐射敏感性组合物含有下述(A)～(C)成分：(A)由以下述通式(1)(R1)pSi(X)4-p表示的水解性硅烷化合物、其水解物及其缩合物组成的组中选出的至少一种化合物，式中，R1是碳数1～12的非水解性的有机基团，X是水解性基团，及p是0～3的整数；(B)光酸发生剂；(C)碱性化合物。通过采用本发明的组合物，可得图形精度等优越的固化物。本发明的组合物可用作形成光波导路的材料。
公开/授权文献
- CN1507580A 正型辐射敏感性组合物以及图形的形成方法 公开/授权日：2004-06-23
IPC分类:
