发明授权
CN1272622C 双折射测定方法及其装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 双折射测定方法及其装置
- 专利标题（英）： Double refraction detecting method and device
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申请号： CN200410002966.5申请日： 1999-04-21
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公开(公告)号： CN1272622C公开(公告)日： 2006-08-30
- 发明人: 森田展弘
- 申请人： 株式会社理光
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 株式会社理光
- 当前专利权人： 株式会社理光
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 杨梧; 马高平
- 优先权： 111813/98 1998.04.22 JP; 111814/98 1998.04.22 JP; 207764/98 1998.07.23 JP
- 分案原申请号： 991051491
- 主分类号： G01N21/43
- IPC分类号： G01N21/43 ; G01M11/02
摘要：
本发明涉及双折射测定方法及其装置，该装置包括照射光学系统、照射侧移位机构、偏振光元件、回转装置、回转角检测装置、受光元件、成像光学系统及运算装置。照射光学系统位置，以发散光照射被检透镜，使偏振光元件回转，透过偏振光元件的光成像在受光元件上，根据偏振光元件回转角度及受光元件的受光输出，计算被检透镜的双折射。能得到光学畸变影响小的光弹性干涉条纹像，也能很容易地对应被检透镜种类的变更。
公开/授权文献
- CN1536348A 双折射测定方法及其装置 公开/授权日：2004-10-13