发明授权
CN1279999C 减少气态流出物中的卤素的方法和装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 减少气态流出物中的卤素的方法和装置
- 专利标题（英）： Method and installation for reducing elementary halogen in gaseous effluent
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申请号： CN00816721.4申请日： 2000-12-01
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公开(公告)号： CN1279999C公开(公告)日： 2006-10-18
- 发明人: 菲利普·勒迪克
- 申请人： 阿托菲娜公司
- 申请人地址： 法国巴黎
- 专利权人： 阿托菲娜公司
- 当前专利权人： 阿托菲娜公司
- 当前专利权人地址： 法国巴黎
- 代理机构： 北京润平知识产权代理有限公司
- 代理商 周建秋
- 优先权： 99/15412 1999.12.07 FR
- 国际申请： PCT/FR2000/003363 2000.12.01
- 国际公布： WO2001/041903 FR 2001.06.14
- 进入国家日期： 2002-06-05
- 主分类号： B01D53/68
- IPC分类号： B01D53/68 ; B01D53/14 ; C01B7/00 ; C02F1/28
摘要：
本发明涉及一种用于降低从燃烧卤化物残渣的燃烧炉中排出的气态流出物中所含卤素的方法，该方法包括将所说流出物与肼接触。本发明也涉及用于处理从燃烧卤化物残渣的燃烧炉(1)中排出的气态流出物的设备或装置，该设备包括单元(6，10，14)，在该单元中使气体与肼的水溶液接触。最后，本发明涉及含有肼的氢卤酸溶液。
公开/授权文献
- CN1407910A 减少气态流出物中的卤素的方法和装置 公开/授权日：2003-04-02
IPC分类:
