发明授权
CN1282983C 利用磁组件蚀刻薄荫罩的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 利用磁组件蚀刻薄荫罩的方法
- 专利标题(英): Method utilizing magnetic assembly during etching thin shadow masks
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申请号: CN00808764.4申请日: 2000-06-07
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公开(公告)号: CN1282983C公开(公告)日: 2006-11-01
- 发明人: C·C·埃斯莱曼 , C·M·维策尔 , R·E·麦科伊
- 申请人: 汤姆森许可公司
- 申请人地址: 法国布洛涅-比扬古
- 专利权人: 汤姆森许可公司
- 当前专利权人: 汤姆森许可公司
- 当前专利权人地址: 法国布洛涅-比扬古
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 章社杲
- 优先权: 09/330,697 1999.06.11 US
- 国际申请: PCT/US2000/015601 2000.06.07
- 国际公布: WO2000/077815 EN 2000.12.21
- 进入国家日期: 2001-12-10
- 主分类号: H01J9/14
- IPC分类号: H01J9/14 ; H01J29/07 ; C23F1/02 ; C23F1/08
摘要:
本发明提供一种在薄金属片(54)上蚀刻孔(78)以形成用于彩色显像管的荫罩的方法,所述金属片在其一主层面上具有第一耐酸模版(56),在其另一主层面上具有第二耐酸模版(58),第一耐酸模版(56)和第二耐酸模版(58)在所述金属片中预设为孔的位置处都具有开口(60,62),其特征在于,所述方法包括下列步骤:通过第一磁组件(64)以磁力把所述金属片固定到绝缘带(46),在所述第一磁组件(64)以磁力将所述金属片固定到所述绝缘带(46)的同时,移动所述第一磁组件通过第一蚀刻腔(48);所述绝缘带(46)通过第一蚀刻腔,所述金属片设置于所述绝缘带的、具有所述第一耐酸模版的一侧,且所述第一耐酸模版朝向第一喷嘴(52),所述第一磁组件位于所述绝缘带的、具有磁性层的另一侧,以磁力将金属片固定到所述绝缘带上,随着所述绝缘带连同其上的第一磁组件和金属片被移动通过所述第一蚀刻腔,所述金属片从其第一耐酸模版一面被部分蚀穿;将所述部分蚀穿的金属片转移到第二磁组件,该第二磁组件以磁力将所述部分蚀穿的金属片与该第二磁组件固定;将所述第二磁组件置于所述绝缘带之上,且使所述金属片上的第二耐酸模版朝向第二喷嘴,以及移动所述第二磁组件和金属片通过第二蚀刻腔(50),在其中完成所述金属片上孔的蚀穿。本发明还提供一种在薄金属片(54)上蚀刻孔(78)以形成用于彩色显像管的荫罩的方法以及一种在薄金属片(32)上蚀刻孔(44)以形成用于彩色显像管的荫罩的方法。
公开/授权文献
- CN1399788A 利用磁组件蚀刻薄荫罩的方法 公开/授权日:2003-02-26