发明授权
CN1286748C 内部玻璃化SiO2坩埚的制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 内部玻璃化SiO2坩埚的制造方法
- 专利标题（英）： Method for the production of an internally vitrified sio2 crucible
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申请号： CN200410047575.5申请日： 2004-05-27
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公开(公告)号： CN1286748C公开(公告)日： 2006-11-29
- 发明人: 弗里茨·施韦特费格 , 延斯·京斯特 , 斯文·恩格勒 , 于尔根·海因里希
- 申请人： 瓦克化学股份公司
- 申请人地址： 联邦德国慕尼黑
- 专利权人： 瓦克化学股份公司
- 当前专利权人： 瓦克化学股份公司
- 当前专利权人地址： 联邦德国慕尼黑
- 代理机构： 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 过晓东
- 优先权： 10324440.9 2003.05.28 DE
- 主分类号： C03B20/00
- IPC分类号： C03B20/00
摘要：
一种制造无裂痕、内部玻璃化SiO2坩埚的方法，在该方法中，利用CO2激光束的焦斑烧结无定形、开孔SiO2坯体坩埚，其中在烧结过程中，使焦斑相对于坩埚移动，烧结作用利用点状焦斑自该SiO2坯体坩埚的上内边缘开始，并继续使点状焦斑扩大至预期焦斑尺寸，焦斑扫过SiO2坯体坩埚的上内边缘直至上内边缘完全玻璃化，然后焦斑移至SiO2坯体坩埚内。
公开/授权文献
- CN1572733A 内部玻璃化SiO2坩埚的制造方法 公开/授权日：2005-02-02
