Invention Publication
CN1289225A 经表面加工的电沉积铜箔及其制造方法和用途
失效 - 权利终止
- Patent Title: 经表面加工的电沉积铜箔及其制造方法和用途
- Patent Title (English): Electro-deposition copper foil through surface-processing, its mfg. method and use thereof
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Application No.: CN00126496.6Application Date: 2000-08-31
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Publication No.: CN1289225APublication Date: 2001-03-28
- Inventor: 仓部仁 , 柴田充人 , 三桥正和
- Applicant: 三井金属鉱业株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 三井金属鉱业株式会社
- Current Assignee: 三井金属鉱业株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 上海专利商标事务所
- Agent 白益华
- Priority: 244882/1999 1999.08.31 JP
- Main IPC: H05K3/38
- IPC: H05K3/38

Abstract:
制造一种表面经加工的电沉积铜箔的方法,其步骤是对其平均表面粗糙度(Rz)为2.5-10μm的毛面进行第一次机械抛光,使其平均表面粗糙度(Rz)成为1.5-6μm 。然后对已经第一次机械抛光的毛面再进行至少一次机械抛光,使其平均表面粗糙度成为1.0~3.0μm。在第一次抛光中,毛面的凸起部位被选择性地抛光,以后的多次抛光是在较为温和的条件下进行。因此可以获得表面性能优异的非常平坦的抛光表面。由于凹陷部位不受到抛光,所以抛光时铜的损耗量甚少。使用本发明的这种表面经加工的电沉积铜箔,可以形成线距极精细的线路图案。
Public/Granted literature
- CN1182766C 经表面加工的电沉积铜箔及其制造方法和用途 Public/Granted day:2004-12-29
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