本发明提供了一种用升华的或蒸发的涂敷材料来涂敷基体的线性孔径沉积设备和工艺。该设备和工艺尤其适用于制造具有非常高的表面厚度均匀性且没有由于源材料的颗粒喷出而造成的缺陷的光学干涉涂层的柔性薄膜。该设备包括一盛有源材料的源箱,一升华或蒸发源材料的加热元件,和一将源材料蒸汽从源箱引导到基体的烟囱。一具有一组孔的流动限制挡板位于源材料和基体之间,以约束和引导蒸汽流,一可选的浮动挡板位于源材料的表面上,以便进一步限制蒸汽流,从而基本上消除源材料的溅射。