Invention Publication
CN1391243A 35Vw和50Vw高比容低接触电阻阳极箔生产工艺
失效 - 权利终止
- Patent Title: 35Vw和50Vw高比容低接触电阻阳极箔生产工艺
- Patent Title (English): Process for preparing 35Vw and 50Vw anode foil with high specific capacity and low contact resistance
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Application No.: CN02138023.6Application Date: 2002-07-24
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Publication No.: CN1391243APublication Date: 2003-01-15
- Inventor: 汪衍 , 马坤松
- Applicant: 扬州宏远电子有限公司
- Applicant Address: 江苏省高邮市长兴路4号
- Assignee: 扬州宏远电子有限公司
- Current Assignee: 扬州宏远电子有限公司
- Current Assignee Address: 江苏省高邮市长兴路4号
- Agency: 扬州市锦江专利事务所
- Agent 江平
- Main IPC: H01G9/055
- IPC: H01G9/055 ; C25F3/04

Abstract:
本发明涉及一种光铝箔的生产方法。主要特点是蚀孔引发时采用30~50Hz的正弦波,在交流腐蚀时腐蚀液为以盐酸为主,硝酸、磷酸、草酸为辅,并添加高效缓蚀剂,腐蚀液的温度为30~50℃。通过上述工艺改进,引发出的孔洞较为理想,能有效地阻止深度腐蚀,使腐蚀在箔的浅表面上进行,消除了因蚀孔吞并而减小扩面的现象,大大增加了腐蚀箔的有效面积,既可使腐蚀蚀孔面积最佳,又利于生产控制。生产的光铝箔具有比容高、接触电阻小的特点,满足了生产高性能铝电解电容器对阳极箔的要求。
Public/Granted literature
- CN100338703C 35Vw和50Vw高比容低接触电阻阳极箔生产工艺 Public/Granted day:2007-09-19
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