本发明提供了一种全光线透过率的值高、具有良好画像表示清晰度、优越抗静电性能和耐损伤性能、并且容易制造的抗静电性硬质涂层薄膜及其制造方法。其中抗静电性硬质涂层薄膜的形成是在基材薄膜上，依次包含以下(A)、(B)层，并以JIS K5400为基准测定出其T－巴抗磨硬度为25以下，其中：(A)由电离辐射固化性树脂构成的硬质涂层；(B)含有平均粒径为0.01～2μm的抗静电粒子的由电离辐射固化性树脂构成的厚度为0.03～2μm抗静电层。