发明公开
CN1440307A 对底材进行连续表面修饰的装置和方法
无效 - 撤回
- 专利标题： 对底材进行连续表面修饰的装置和方法
- 专利标题（英）： Apparatus and method for continuous surface modification of substrates
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申请号： CN01812445.3申请日： 2001-04-16
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公开(公告)号： CN1440307A公开(公告)日： 2003-09-03
- 发明人: 卡尔·赖默
- 申请人： 卡尔·赖默
- 申请人地址： 美国加里福尼亚州
- 专利权人： 卡尔·赖默
- 当前专利权人： 卡尔·赖默
- 当前专利权人地址： 美国加里福尼亚州
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 郭建新
- 优先权： 60/197,836 2000.04.14 US
- 国际申请： PCT/US2001/12531 2001.04.16
- 国际公布： WO2001/78891 EN 2001.10.25
- 进入国家日期： 2002-11-15
- 主分类号： B01J19/08
- IPC分类号： B01J19/08
摘要：
按本发明，提供了预处理底材(5)而将一种材料粘附到底材(5)的表面的装置和方法。将需要预处理的底材(5)的表面暴露于包括紫外辐射线的电磁辐射，于是，底材表面被净化和/或通过暴露于紫外线辐射而被修饰。还公开了电离装置和/或红外辐射源与电磁辐射结合在修饰需预处理的底材(5)表面方面的应用。另外，描述了气体组分在修饰底材(5)表面上的化学官能度方面的应用。本发明具有广泛的用途，包括制鞋业、飞机和宇宙飞船制造、机动车制造和生化样品在微型阵列(microarray)孔板上的沉积。