发明授权
- 专利标题: 微电子装置制造中用于有机聚合物电介质的硬面层的有机硅酸盐树脂
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申请号: CN01814521.3申请日: 2001-08-20
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公开(公告)号: CN1447981B8公开(公告)日: 2013-12-11
- 发明人: E·O·谢弗二世 , K·E·霍华德 , J·J·M·韦特卢斯 , J·E·黑茨内尔 , P·H·汤森三世 , L·K·米尔斯 , S·冈巴尔-费特内尔 , L·R·威尔逊
- 申请人: 陶氏环球技术公司
- 申请人地址: 美国密歇根州
- 专利权人: 陶氏环球技术公司
- 当前专利权人: 陶氏环球技术公司
- 当前专利权人地址: 美国密歇根州
- 代理机构: 北京戈程知识产权代理有限公司
- 代理商 程伟
- 优先权: 60/226,170 2000.08.21 US; 60/284,317 2001.04.17 US
- 国际申请: PCT/US2001/025977 2001.08.20
- 国际公布: WO02/16477 EN 2002.02.28
- 进入国家日期: 2003-02-21
- 主分类号: C08G77/20
- IPC分类号: C08G77/20 ; C08L83/04 ; C08J5/18 ; H01L21/311
摘要:
本发明为一种方法,包括提供一种底材,在底材上形成第一层,其中第一层具有小于3.0的介电常数且含有一种有机聚合物,在第一层上涂施有机硅酸盐树脂,除去一部分有机硅酸盐树脂以暴露第一层的一部分,然后除去第一层的暴露部分。本发明同时也是一种集成电路制品,包括一个含有晶体管的活性底材和一个含有金属线路模式的电内连接结构,至少部分地被有机聚合物材料构成的层或区域分开,有机聚合物材料具有小于3.0的介电常数,并进一步包括在至少一层有机聚合物材料层之上的一层有机硅酸盐树脂。
公开/授权文献
- CN1447981B 微电子装置制造中用于有机聚合物电介质的硬面层的有机硅酸盐树脂 公开/授权日:2013-08-07