Invention Publication
- Patent Title: 荫罩材料及其制备方法、包含该材料的荫罩以及使用所述荫罩的显像管
- Patent Title (English): Material for shadow mask, method for production thereof, shadow mask comprising the material and picture tube using the shadow mask
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Application No.: CN01819242.4Application Date: 2001-11-14
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Publication No.: CN1483089APublication Date: 2004-03-17
- Inventor: 上田利行 , 薮田尚巳 , 青木晋一
- Applicant: 东洋钢钣株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 东洋钢钣株式会社
- Current Assignee: 东洋钢钣株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 蔡胜有
- Priority: 354284/2000 2000.11.21 JP
- International Application: PCT/JP2001/09964 2001.11.14
- International Announcement: WO2002/42509 JA 2002.05.30
- Date entered country: 2003-05-20
- Main IPC: C22C38/00
- IPC: C22C38/00 ; H01J29/07 ; H01J9/14

Abstract:
一种荫罩材料,特征在于:其化学组成为:C=0.0030%(重量),Si=0.03%(重量),Mn:0.1-0.5%(重量),P=0.02%(重量),S=0.02%(重量),Al:0.01-0.07%(重量),N=0.0030%(重量),B:其含量满足关系0.5≤B/N≤2,余者为Fe和不可避免的杂质,并且,该材料制成的荫罩的矫顽力为90A/m或更低;一种制备所述材料的方法,其特征在于:采用具有上述化学组成的材料作为原材料,热轧终了温度比Ar3点低0-30℃,卷取温度为650-700℃,在最终轧制(二次冷轧)时的轧制压下量为30-45%。采用所述方法制备的材料的磁性能在卷材中均匀一致并且如上所述优异。
Public/Granted literature
- CN1200129C 荫罩材料及其制备方法、包含该材料的荫罩以及使用所述荫罩的显像管 Public/Granted day:2005-05-04
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