• Patent Title: 高活性光催化剂粒子、其制造方法及其用途
  • Patent Title (English): Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
  • Application No.: CN02825494.5
    Application Date: 2002-12-20
  • Publication No.: CN1606474B
    Publication Date: 2012-09-19
  • Inventor: 田中淳三林正幸植吉义范
  • Applicant: 昭和电工株式会社
  • Applicant Address: 日本东京都
  • Assignee: 昭和电工株式会社
  • Current Assignee: 昭和电工株式会社
  • Current Assignee Address: 日本东京都
  • Agency: 北京市中咨律师事务所
  • Agent 段承恩; 田欣
  • Priority: 388615/2001 20011221 JP; 390736/2001 20011225 JP; 188131/2002 20020627 JP
  • International Application: PCT/JP2002/013403 20021220
  • International Announcement: WO2003/053576 JA 20030703
  • Date entered country: 2004-06-18
  • Main IPC: B01J35/02
  • IPC: B01J35/02 B01J27/18
高活性光催化剂粒子、其制造方法及其用途
Abstract:
本发明提供二氧化钛和作为光催化剂惰性的化合物的复合粒子的制造方法,该法发包括:准备含有二氧化钛的pH是3~5的水系浆液的工序、准备含有作为光催化剂惰性的化合物的水系溶液的工序、以及在pH4~10的范围使两者发生反应的工序的二氧化钛和作为光催化剂惰性的化合物的复合粒子的制造方法,并提供由该方法制造的高活性光催化剂粒子及其用途。
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