发明授权
- 专利标题: 清洁溶液的制造方法和使用该清洁溶液的清洁方法
- 专利标题(英): Cleaning solution production method, cleaning method using the cleaning solution
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申请号: CN200410101725.6申请日: 1997-03-27
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公开(公告)号: CN1636640B公开(公告)日: 2012-06-06
- 发明人: 吴义烈 , 三森健一 , 宫泽聪
- 申请人: 阿尔卑斯电气株式会社 , 奥璐佳瑙股份有限公司
- 申请人地址: 日本国东京都
- 专利权人: 阿尔卑斯电气株式会社,奥璐佳瑙股份有限公司
- 当前专利权人: 奥璐佳瑙股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本国东京都
- 代理机构: 北京三幸商标专利事务所
- 代理商 刘激扬
- 优先权: 072175/96 1996.03.27 JP
- 分案原申请号: 971019592 1997.03.27
- 主分类号: B08B3/08
- IPC分类号: B08B3/08
摘要:
本发明涉及一种清洁方法,即涉及一种用于清除在制造液晶显示器基片或半导体过程中,粘附在基片等表面上的污物的清洁方法。其中含水还原碱性清洁溶液由碱性溶液与含氢的水混合制成。这种含水清洁溶液具有有效的清洁能力,其氧化还原电位和pH值可以单独控制。因此,根据在每一制造工序过程中,粘附在物体上的污物的形式,利用含水清洁溶液清洗即可清除多种污物。
公开/授权文献
- CN1636640A 清洁方法 公开/授权日:2005-07-13
IPC分类: