发明授权
- 专利标题: 蚀刻组合物
- 专利标题(英): Etching composition
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申请号: CN200510055418.3申请日: 2005-03-17
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公开(公告)号: CN1670624B公开(公告)日: 2012-11-14
- 发明人: 李骐范 , 曹三永 , 李敏键 , 申贤哲
- 申请人: 株式会社东进世美肯
- 申请人地址: 韩国仁川市
- 专利权人: 株式会社东进世美肯
- 当前专利权人: 株式会社东进世美肯
- 当前专利权人地址: 韩国仁川市
- 代理机构: 北京三友知识产权代理有限公司
- 代理商 丁香兰
- 优先权: 10-2004-0018295 2004.03.18 KR
- 主分类号: G03F7/004
- IPC分类号: G03F7/004 ; G02F1/136 ; H01L21/027
摘要:
本发明涉及薄膜晶体管液晶显示装置的蚀刻组合物,为了对薄膜晶体管液晶显示装置的透明导电膜(ITO膜)进行选择性地蚀刻,所用的蚀刻组合物中含有盐酸、醋酸、添加剂及超纯水,它们随时间的变化小,将对于其他的配线的影响最小化,从而实现了对薄膜的稳定蚀刻,且蚀刻速度快,减轻了侧蚀。
公开/授权文献
- CN1670624A 蚀刻组合物 公开/授权日:2005-09-21
IPC分类: