Invention Publication
CN1701110A 铈系研磨材料及其原料
失效 - 权利终止
- Patent Title: 铈系研磨材料及其原料
- Patent Title (English): Cerium based polishing material and raw materials therefor
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Application No.: CN200480001221.5Application Date: 2004-03-29
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Publication No.: CN1701110APublication Date: 2005-11-23
- Inventor: 小林大作 , 内野义嗣 , 册崎秀彦
- Applicant: 三井金属鉱业株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 三井金属鉱业株式会社
- Current Assignee: 三井金属鉱业株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 上海专利商标事务所有限公司
- Agent 胡烨
- Priority: 187280/2003 2003.06.30 JP; 187281/2003 2003.06.30 JP
- International Application: PCT/JP2004/004407 2004.03.29
- International Announcement: WO2005/000992 JA 2005.01.06
- Date entered country: 2005-05-11
- Main IPC: C09K3/14
- IPC: C09K3/14 ; C01F17/00 ; B24B37/00

Abstract:
本发明提供具有发生损伤更少等优良研磨特性、研磨速度更高的铈系研磨材料。该铈系研磨材料作为稀土类氧化物至少含有氧化铈(CeO2)、氧化镧(La2O3)及氧化钕(Nd2O3),并含有氟元素(F),其总稀土类氧化物换算重量(TREO)为90wt%以上,同时,TREO中氧化铈所占重量比(CeO2/TREO)为50wt%~65wt%,并且TREO中氧化钕所占重量比(Nd2O3/TREO)为10wt%~16wt%。使用这样的铈系研磨材料能迅速得到研磨损伤发生较少的研磨面。
Public/Granted literature
- CN100376653C 铈系研磨材料及其原料 Public/Granted day:2008-03-26
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