发明公开
CN1723188A 还原脱卤方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 还原脱卤方法
- 专利标题（英）： Process for reductive dehalogenation
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申请号： CN200480001834.9申请日： 2004-01-07
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公开(公告)号： CN1723188A公开(公告)日： 2006-01-18
- 发明人: 谷雄一郎 , 中山敬司 , 櫻谷宪司 , 佐藤耕司
- 申请人： 第一制药株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 第一制药株式会社
- 当前专利权人： 第一制药株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 沙永生
- 优先权： 001300/2003 2003.01.07 JP
- 国际申请： PCT/JP2004/000018 2004.01.07
- 国际公布： WO2004/060851 JA 2004.07.22
- 进入国家日期： 2005-07-04
- 主分类号： C07C67/317
- IPC分类号： C07C67/317 ; C07C69/74 ; C07B61/00
摘要：
2－氟环丙烷－1－羧酸酯的制备方法，该方法的特征在于，在相间转移催化剂的存在下，使右式(1)表示的化合物与还原剂反应，式中，X表示氯原子、溴原子或碘原子；R1表示碳原子数1～8的烷基、碳原子数6～12的芳基、碳原子数2～8的链烯基或由碳原子数6～12的芳基和碳原子数1～6的亚烷基构成的芳烷基。采用本发明的制备方法能够大幅度缩短脱卤反应的反应时间。
公开/授权文献
- CN1304356C 还原脱卤方法 公开/授权日：2007-03-14
