发明公开
CN1723537A 曝光装置以及器件制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 曝光装置以及器件制造方法
- 专利标题（英）： Exposure apparatus and method for producing device
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申请号： CN200380105419.3申请日： 2003-12-05
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公开(公告)号： CN1723537A公开(公告)日： 2006-01-18
- 发明人: 马込伸贵 , 高岩宏明 , 荒井大
- 申请人： 株式会社尼康
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 株式会社尼康
- 当前专利权人： 株式会社尼康
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 曲瑞
- 优先权： 357957/2002 2002.12.10 JP; 305279/2003 2003.08.28 JP
- 国际申请： PCT/JP2003/015587 2003.12.05
- 国际公布： WO2004/053952 JA 2004.06.24
- 进入国家日期： 2005-06-08
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; G03F7/20
摘要：
本发明提供一种在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光之际，能够抑制起因于附着于基片的液体的器件的劣化的曝光装置。器件制造系统(SYS)具备：在投影光学系统(PL)与基片(P)之间用液体(50)充满，经由投影光学系统(PL)和液体(50)将图案像投影到基片(P)上的曝光装置本体(EX)；曝光装置本体(EX)与进行基片(P)曝光后的处理的涂敷器·显影器本体(C/D)的接口部(IF)；以及在基片(P)曝光后、经由接口部(IF)将基片(P)搬出至涂敷器·显影器本体(C/D)之前，除去附着于基片(P)的液体(50)的液体除去装置(100)。
公开/授权文献
- CN100382241C 曝光装置以及曝光系统 公开/授权日：2008-04-16
IPC分类:
