发明公开
CN1742413A 带有波长控制的注入种子的F2激光器
失效 - 权利终止
- 专利标题: 带有波长控制的注入种子的F2激光器
- 专利标题(英): Injection seeded F2 laser with wavelength control
-
申请号: CN02807812.8申请日: 2002-03-29
-
公开(公告)号: CN1742413A公开(公告)日: 2006-03-01
- 发明人: R·L·桑德斯特伦 , R·M·内斯 , W·N·帕特洛 , A·I·叶尔绍夫 , E·D·昂科尔斯 , 吴忠勋
- 申请人: 西默股份有限公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 西默股份有限公司
- 当前专利权人: 西默股份有限公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 李家麟
- 优先权: 09/829,475 2001.04.09 US; 09/848,043 2001.05.03 US; 09/854,097 2001.05.11 US; 09/855,310 2001.05.14 US
- 国际申请: PCT/US2002/009625 2002.03.29
- 国际公布: WO2002/082601 EN 2002.10.17
- 进入国家日期: 2003-10-08
- 主分类号: H01S3/22
- IPC分类号: H01S3/22 ; H01S3/223 ; H01S3/14 ; H01S3/10 ; H01S3/00 ; H01S3/097
摘要:
本发明提供了一种具有两个激光器子系统的窄带激光器系统。第一激光器子系统(种子激光器)提供了非常窄带脉冲光束,它用于把种子注入第二激光器子系统(从属振荡器或功率放大器),其中窄带脉冲种子光束被放大以产生窄带脉冲输出光束。脉冲电源(脉冲功率)对两个激光器子系统内的放电进行精确定时,使得这两个放电被适当同步。激光器气体包括F2,其分压强低于约1%,缓冲气体由氦、氖或它们的组合组成。通过调整第一激光器子系统内下列参数的一个或多个而提供对输出光束中心波长的控制:总激光器气压、氦或氖的相对浓度、F2分压强、激光器气体温度、放电电压和脉冲能量。
公开/授权文献
- CN100508308C 带有波长控制的注入种子的F2激光器 公开/授权日:2009-07-01