氟代环烯烃聚合物及在深紫外类光刻胶中的应用

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专利标题： 氟代环烯烃聚合物及在深紫外类光刻胶中的应用
专利标题（英）： Fluorocycloolefen polymer and its use for bark ultraviolet photoetching glue
申请号： CN200410091156.1

申请日： 2004-11-22
公开(公告)号： CN1779569B

公开(公告)日： 2010-09-29
发明人: 罗杰·森特 , 陈昕 , 黄志齐 , 郑金红
申请人： 北京科华微电子材料有限公司 , 北京化学试剂研究所
申请人地址： 北京市通州区工业开发区广通街18号
专利权人： 北京科华微电子材料有限公司,北京化学试剂研究所
当前专利权人： 北京科华微电子材料有限公司,北京化学试剂研究所
当前专利权人地址： 北京市通州区工业开发区广通街18号
代理机构： 北京金富邦专利事务所有限责任公司
代理商 孙伯庆; 揭玉斌
主分类号： G03F7/039
IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/004 ; G03F7/20

摘要：

本发明涉及到单体、聚合物以及由此制备的适用于深紫外光源、尤其是ArF光源的光刻工艺光刻胶，又称光致抗蚀剂。本发明中新型的聚合物包括共聚物和三聚物，具体可用化学结构式1表示。Chemical Formula 1其中氟代环烯烃单体中的R1可以是氢原子或本文所定义的酸不稳定悬挂基团，R2为C1～C10的烷基、卤素或三氟甲基。所述结构式1的共聚单体中的R3为卤素、氢原子或烷基，R4、R5、R6为说明书所定义的叔脂环基团。

摘要（英）：

An application of fluocycloolefine polymer in deep ultraviolet photo etching glue prepares newly developed polymer by copolymer and tripolymer. In their chemical equation, R1 is hydrogen atom in fluocycloolefine monomer, R2 is alkyl of C1-C10 or halogen, R3 is halogen or hydrogen atom in comonomer, R4 and R5 as well as R6 is tertiary alicyl.

公开/授权文献

CN1779569A 氟代环烯烃聚合物及在深紫外类光刻胶中的应用公开/授权日：2006-05-31

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IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/004	.感光材料（G03F7/12，G03F7/14优先）
G03F7/039	..可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂（G03F7/075优先；高分子苯醌重氮化合物入G03F7/023）