发明公开
CN1791654A 一种用于化学机械抛光的二氧化铈细颗粒浓缩物及其制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种用于化学机械抛光的二氧化铈细颗粒浓缩物及其制备方法
- 专利标题(英): Concentrate of fine ceria particles for chemical mechanical polishing and preparing method thereof
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申请号: CN200480013761.5申请日: 2004-05-21
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公开(公告)号: CN1791654A公开(公告)日: 2006-06-21
- 发明人: 朴世雄 , 明岏在 , 白珍洙 , 郑畅模 , 宋圭镐
- 申请人: 韩华石油化学株式会社
- 申请人地址: 韩国首尔
- 专利权人: 韩华石油化学株式会社
- 当前专利权人: 韩华石油化学株式会社
- 当前专利权人地址: 韩国首尔
- 代理机构: 北京润平知识产权代理有限公司
- 代理商 周建秋; 王凤桐
- 优先权: 10-2003-0032574 2003.05.22 KR
- 国际申请: PCT/KR2004/001222 2004.05.21
- 国际公布: WO2004/104134 EN 2004.12.02
- 进入国家日期: 2005-11-21
- 主分类号: C09K3/14
- IPC分类号: C09K3/14
摘要:
本发明公开了一种用于化学机械抛光的二氧化铈细颗粒浓缩物及其制备方法。该方法包括将含i)水、ii)水溶性铈盐化合物水溶液和iii)氨或铵盐的反应混合物在250- 700℃的反应温度、180-550巴的反应压力下,在连续反应器中反应0.01秒到10分钟,得到含二氧化铈细颗粒的溶液,其中,铈盐化合物在反应混合物中的含量为0.01-20重量%;并且在装有孔径为0.01-10微米的过滤器的浓缩器中将所述含二氧化铈细颗粒的溶液浓缩。该浓缩物的优点在于,通过稀释和添加添加剂工艺,易于得到化学机械抛光浆料和分散液。
公开/授权文献
- CN100372905C 一种用于化学机械抛光的二氧化铈细颗粒浓缩物及其制备方法 公开/授权日:2008-03-05