发明公开
CN1795284A 超低残留反射的低应力透镜涂层
失效 - 权利终止
- 专利标题: 超低残留反射的低应力透镜涂层
- 专利标题(英): Ultra low residual reflection, low stress lens coating
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申请号: CN200480014127.3申请日: 2004-05-18
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公开(公告)号: CN1795284A公开(公告)日: 2006-06-28
- 发明人: 格伦·A.·凯尼格 , 尼古拉斯·G.·尼杰洛
- 申请人: 奥普梯玛公司
- 申请人地址: 美国康涅狄格
- 专利权人: 奥普梯玛公司
- 当前专利权人: 奥普梯玛公司
- 当前专利权人地址: 美国康涅狄格
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 蒋世迅
- 优先权: 10/444,582 2003.05.23 US
- 国际申请: PCT/US2004/015478 2004.05.18
- 国际公布: WO2004/106979 EN 2004.12.09
- 进入国家日期: 2005-11-22
- 主分类号: C23C14/08
- IPC分类号: C23C14/08 ; C23C14/30 ; C23C14/54 ; C23C16/52 ; C09D1/00 ; G02B1/11
摘要:
本发明给出一种用防反射(AR)涂层对光学透镜和其他光学制品涂覆的方法。透镜有低的反射率,提供基本上白色的光反射,并有低应力AR涂层,且理想地适合用于模制工艺制作的光学透镜,该种模制工艺给出低应力的透镜基片。一方面,本方法使用专门的涂层成分,其中之一是高折射率成分,另一种是低折射率成分。另一方面,还公开一种光学监控器与常规汽相淀积设备结合使用的方法,按照该方法,使用光学参考透镜,并测量反射光中特定的光学频率,然后用该测量来确定何时获得需要的光学涂层。再一方面,本方法最好还用反射光中蓝光对绿光对红光的专门比例,计算每一层的光学厚度。必要时,还通过调整每一层的光学厚度,控制AR膜的应力,使低/高折射率层之间的拉应力和压应力的差最小。
公开/授权文献
- CN1795284B 超低残留反射的低应力透镜涂层 公开/授权日:2012-03-21
IPC分类: