Invention Publication
CN1795284A 超低残留反射的低应力透镜涂层
失效 - 权利终止
- Patent Title: 超低残留反射的低应力透镜涂层
- Patent Title (English): Ultra low residual reflection, low stress lens coating
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Application No.: CN200480014127.3Application Date: 2004-05-18
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Publication No.: CN1795284APublication Date: 2006-06-28
- Inventor: 格伦·A.·凯尼格 , 尼古拉斯·G.·尼杰洛
- Applicant: 奥普梯玛公司
- Applicant Address: 美国康涅狄格
- Assignee: 奥普梯玛公司
- Current Assignee: 奥普梯玛公司
- Current Assignee Address: 美国康涅狄格
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 蒋世迅
- Priority: 10/444,582 2003.05.23 US
- International Application: PCT/US2004/015478 2004.05.18
- International Announcement: WO2004/106979 EN 2004.12.09
- Date entered country: 2005-11-22
- Main IPC: C23C14/08
- IPC: C23C14/08 ; C23C14/30 ; C23C14/54 ; C23C16/52 ; C09D1/00 ; G02B1/11

Abstract:
本发明给出一种用防反射(AR)涂层对光学透镜和其他光学制品涂覆的方法。透镜有低的反射率,提供基本上白色的光反射,并有低应力AR涂层,且理想地适合用于模制工艺制作的光学透镜,该种模制工艺给出低应力的透镜基片。一方面,本方法使用专门的涂层成分,其中之一是高折射率成分,另一种是低折射率成分。另一方面,还公开一种光学监控器与常规汽相淀积设备结合使用的方法,按照该方法,使用光学参考透镜,并测量反射光中特定的光学频率,然后用该测量来确定何时获得需要的光学涂层。再一方面,本方法最好还用反射光中蓝光对绿光对红光的专门比例,计算每一层的光学厚度。必要时,还通过调整每一层的光学厚度,控制AR膜的应力,使低/高折射率层之间的拉应力和压应力的差最小。
Public/Granted literature
- CN1795284B 超低残留反射的低应力透镜涂层 Public/Granted day:2012-03-21
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