发明授权
- 专利标题： 光刻设备中的偏振辐射和器件制造方法
- 专利标题（英）： Polarized radiation in lithographic apparatus and device manufacturing method
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申请号： CN200510003503.5申请日： 2005-12-23
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公开(公告)号： CN1797202B公开(公告)日： 2010-12-08
- 发明人: C·瓦格纳 , W·P·德博伊 , T·海尔 , D·菲奥卡 , R·德乔阁
- 申请人： ASML荷兰有限公司 , 卡尔蔡司SMT股份公司
- 申请人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 专利权人： ASML荷兰有限公司,卡尔蔡司SMT股份公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司,卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王波波
- 优先权： 11/022938 2004.12.28 US; 11/101630 2005.04.08 US
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/027
摘要：
光刻设备使用偏振光改善成像特性，例如曝光宽容度，同时保持和延长光刻设备中照射系统的寿命。
公开/授权文献
- CN1797202A 光刻设备中的偏振辐射和器件制造方法 公开/授权日：2006-07-05
IPC分类:
