热解法制造的二氧化硅粉末
摘要:
热解法制造的、初级微粒的聚集体形式的二氧化硅粉末,其BET表面积为300±25m2/g,其中所述聚集体的平均面积为4800-6000nm2,平均当量圆直径(ECD)为60-80nm,平均周长为580-750nm。其通过热解法制造,其中四氯化硅和包含H3SiCl、H2SiCl2、HSiCl3、CH3SiCl3、(CH3)2SiCl2、(CH3)3SiCl和/或(n-C3H7)SiCl3的最高40重量%的第二硅成分与初级空气和燃烧气体混合,并引入反应室燃烧,其中所述反应室中还引入二级空气,所选择的配料需使绝热火焰温度为1390至1450℃。其可作为填料使用。
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