发明授权
CN1811601B 光刻装置和器件制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 光刻装置和器件制造方法
- 专利标题（英）： Lithographic apparatus and device manufacturing method
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申请号： CN200610008927.5申请日： 2006-01-12
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公开(公告)号： CN1811601B公开(公告)日： 2010-08-18
- 发明人: P·M·M·列布雷格特斯 , J·H·W·雅各布斯 , T·尤得迪杰克
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王波波
- 优先权： 60/643608 2005.01.14 US
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/027
摘要：
本发明公开了一种浸没光刻装置，在所述装置中，一个或多个液体分流器设置在液体限制结构所包围的间隙中。液体分流器的功能是阻止一个或多个浸没液体回流区的形成，回流区可以导致在所述间隙中的浸没液体的折射率改变，进而造成成像错误。
公开/授权文献
- CN1811601A 光刻装置和器件制造方法 公开/授权日：2006-08-02
IPC分类:
