发明公开
CN1832793A 利用光催化剂净化空气的方法和装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 利用光催化剂净化空气的方法和装置
- 专利标题(英): Method and apparatus for purifying air using a photocatalyst
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申请号: CN200480022448.8申请日: 2004-05-27
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公开(公告)号: CN1832793A公开(公告)日: 2006-09-13
- 发明人: D·魏 , T·N·奥比 , S·O·海 , T·H·范德斯普尔特 , W·R·施密德特 , J·J·桑焦文尼
- 申请人: 开利公司
- 申请人地址: 美国纽约州
- 专利权人: 开利公司
- 当前专利权人: 开利公司
- 当前专利权人地址: 美国纽约州
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 韦欣华; 段晓玲
- 优先权: 10/449,752 2003.05.30 US
- 国际申请: PCT/US2004/016710 2004.05.27
- 国际公布: WO2004/108255 EN 2004.12.16
- 进入国家日期: 2006-02-05
- 主分类号: B01D53/86
- IPC分类号: B01D53/86 ; B01D53/88 ; B01J21/06 ; B01J23/30 ; B01J35/00
摘要:
氧化钨/二氧化钛涂层,将空气中吸附在该涂层上的污染物氧化为水、二氧化碳和其它物质。氧化钨在二氧化钛上形成单层。当紫外光的光子被氧化钨/二氧化钛光催化剂突出吸收时,电子从价带跃迁到导带,在价带中产生空穴。价带中的空穴与施加到氧化钨/二氧化钛光催化剂涂层上的水反应,形成活性羟基自由基。当空气中的污染物吸附到氧化钨/二氧化钛光催化剂上时,羟基自由基进攻污染物,从污染物夺走氢原子。羟基自由基氧化污染物,产生水、二氧化碳和其它物质。氧化钨/二氧化钛光催化涂层对湿度变化具有低敏感性。
公开/授权文献
- CN100496677C 利用光催化剂净化空气的方法和装置 公开/授权日:2009-06-10
IPC分类: