发明授权
CN1854794B 近场光发生器件的制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 近场光发生器件的制造方法
- 专利标题(英): Method for producing near field optical generator
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申请号: CN200610079984.2申请日: 2006-04-26
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公开(公告)号: CN1854794B公开(公告)日: 2010-06-16
- 发明人: 平田雅一 , 大海学 , 柴田浩一
- 申请人: 精工电子有限公司
- 申请人地址: 日本千叶县千叶市
- 专利权人: 精工电子有限公司
- 当前专利权人: 精工电子有限公司
- 当前专利权人地址: 日本千叶县千叶市
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 杨松龄
- 优先权: 2005-127525 2005.04.26 JP; 2005-208670 2005.07.19 JP
- 主分类号: G02B21/00
- IPC分类号: G02B21/00 ; G01N13/10 ; G01N13/14 ; G11B7/004 ; G11B7/135 ; C23C14/24
摘要:
提供一种通过较低水平的光刻制造蝶形领结天线的方法,通过在基体上形成蚀刻掩模,形成截头四方形棱锥,掩模的形状类似截头四方形棱锥的顶表面,通过掩模材料制造的蚀刻掩模对基体进行各向同性的蚀刻。其后,通过从各表面的前方沿平行基体的方向注射真空沉积物,在截头四方形棱锥的两个相对的侧表面形成金属薄膜。
公开/授权文献
- CN1854794A 近场光发生器件的制造方法 公开/授权日:2006-11-01