发明公开
CN1862259A 检查基准设定装置及方法、以及工序检查装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 检查基准设定装置及方法、以及工序检查装置
- 专利标题(英): Inspection standard setting device, inspection standard setting method and process inspection device
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申请号: CN200610080225.8申请日: 2006-05-12
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公开(公告)号: CN1862259A公开(公告)日: 2006-11-15
- 发明人: 田崎博 , 糀谷和人
- 申请人: 欧姆龙株式会社
- 申请人地址: 日本京都府京都市
- 专利权人: 欧姆龙株式会社
- 当前专利权人: 欧姆龙株式会社
- 当前专利权人地址: 日本京都府京都市
- 代理机构: 北京三友知识产权代理有限公司
- 代理商 黄纶伟
- 优先权: 2005-139903 2005.05.12 JP
- 主分类号: G01N35/00
- IPC分类号: G01N35/00 ; H05K13/08 ; G06F17/00
摘要:
检查基准设定装置及方法、以及工序检查装置。本发明的课题是提供用于适当地设定检查基准的技术,该检查基准用于在工序检查中检测缺陷征兆。作为解决手段,信息处理装置将对于工序检查的各检查项目提取出的特征量以及最终检查的判断结果存储于存储单元中,根据存储于存储单元中的多个产品的数据,针对每个检查项目或每个检查项目的组合,计算在最终检查中判断为良品的产品组的特征量的分布和在最终检查中判断为次品的产品组的特征量的分布之间的分离度,从检查项目或检查项目的组合中,根据该分离度的大小,选择应重新设定检查基准的检查项目,对于所选择出的检查项目,设定新的检查基准。
公开/授权文献
- CN1862259B 检查基准设定装置及方法、以及工序检查装置 公开/授权日:2010-05-12