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发明公开
CN1863836A 根据双点技术的可粘结内衬用可交联基底层 无效 - 撤回

  • 专利标题： 根据双点技术的可粘结内衬用可交联基底层
  • 专利标题（英）： Cross-linkable base layer for interlinings applied in a double-dot method
  • 申请号： CN200480029583.5
    申请日： 2004-08-16
  • 公开(公告)号： CN1863836A
    公开(公告)日： 2006-11-15
  • 发明人: U·西蒙 , A·保利克
  • 申请人： 德古萨公司
  • 申请人地址： 德国杜塞尔多夫
  • 专利权人： 德古萨公司
  • 当前专利权人： 德古萨公司
  • 当前专利权人地址： 德国杜塞尔多夫
  • 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
  • 代理商 刘维升; 李连涛
  • 优先权： 10347665.2 2003.10.09 DE
  • 国际申请： PCT/EP2004/051806 2004.08.16
  • 国际公布： WO2005/035614 DE 2005.04.21
  • 进入国家日期： 2006-04-10
  • 主分类号： C08G18/40
  • IPC分类号： C08G18/40 ;  C08G18/60 ;  C08G18/42 ;  C09J167/00
根据双点技术的可粘结内衬用可交联基底层
摘要：
具有涂覆和/或层压片状结构的双点的内衬，其中上点基于胺－封闭的可交联共聚酰胺而该下点具有OH－封闭的聚酯且还包括交联剂和丙烯酸分散体和/或PUR分散体。
摘要（英）：

The invention relates to an interlining comprising double dots for the coating and/or laminating of surface structures. Said interlining is characterised in that the top dot is based on an amine-terminated, cross-linkable copolyamide and the base dot consists of an OH-terminated copolyester and in addition contains a cross-linking agent and an acrylic and/or PUR dispersion.

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