发明授权
CN1890605B 辐射敏感组合物和以其为基础的可成像元件
失效 - 权利终止
- 专利标题: 辐射敏感组合物和以其为基础的可成像元件
- 专利标题(英): Radiation-sensitive compositions and imageable elements based thereon
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申请号: CN200480036031.7申请日: 2004-11-18
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公开(公告)号: CN1890605B公开(公告)日: 2010-10-27
- 发明人: H·鲍曼 , U·德瓦斯 , M·弗卢格尔
- 申请人: 柯达彩色绘图有限责任公司
- 申请人地址: 德国奥斯特罗德
- 专利权人: 柯达彩色绘图有限责任公司
- 当前专利权人: 柯达彩色绘图有限责任公司
- 当前专利权人地址: 德国奥斯特罗德
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 范赤; 邹雪梅
- 优先权: 10356847.6 2003.12.05 DE
- 国际申请: PCT/EP2004/013138 2004.11.18
- 国际公布: WO2005/054952 EN 2005.06.16
- 进入国家日期: 2006-06-05
- 主分类号: G03F7/031
- IPC分类号: G03F7/031
摘要:
辐射敏感组合物,其包含(a)至少一种可光聚合的化合物,其具有至少一个能够进行自由基聚合的烯属不饱和基团,其中所述至少一种可光聚合的化合物具有3,000或者以下的分子量,并且能够通过二异氰酸酯与(i)具有羟基基团的烯属不饱和化合物和同时(ii)具有NH基团和OH基团的饱和有机化合物反应进行制备,其中所述反应物以根据以下条件的量使用:异氰酸酯基团的摩尔数≤OH加NH基团的摩尔数;(b)至少一种敏化剂,其吸收电磁波谱的波长范围为250到450纳米的辐射,并且选自:通式(I)的二氢吡啶和通式(II)的唑衍生物:(II)(c)至少一种共引发剂,其能够与敏化剂(b)一起形成自由基,并且选自2,2’,4,4’,5,5’-六芳基双咪唑、具有至少一个可光解地分裂的三卤甲基基团的化合物、二芳基碘盐、三芳基锍盐和在环中具有至少一个氮原子、在至少一个环中的氮原子处具有氧基取代基的N-杂环化合物,以及上述化合物的混合物;和(d)任选地一种或多种选自以下的组分:碱-可溶性的粘合剂、着色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、无色染料、表面活性剂、无机填料和热聚合抑制剂;条件是,所述辐射敏感组合物不包含茂金属。
公开/授权文献
- CN1890605A 辐射敏感组合物和以其为基础的可成像元件 公开/授权日:2007-01-03
IPC分类: