辐射敏感组合物和以其为基础的可成像元件
摘要:
辐射敏感组合物,其包含(a)至少一种可光聚合的化合物,其具有至少一个能够进行自由基聚合的烯属不饱和基团,其中所述至少一种可光聚合的化合物具有3,000或者以下的分子量,并且能够通过二异氰酸酯与(i)具有羟基基团的烯属不饱和化合物和同时(ii)具有NH基团和OH基团的饱和有机化合物反应进行制备,其中所述反应物以根据以下条件的量使用:异氰酸酯基团的摩尔数≤OH加NH基团的摩尔数;(b)至少一种敏化剂,其吸收电磁波谱的波长范围为250到450纳米的辐射,并且选自:通式(I)的二氢吡啶和通式(II)的唑衍生物:(II)(c)至少一种共引发剂,其能够与敏化剂(b)一起形成自由基,并且选自2,2’,4,4’,5,5’-六芳基双咪唑、具有至少一个可光解地分裂的三卤甲基基团的化合物、二芳基碘盐、三芳基锍盐和在环中具有至少一个氮原子、在至少一个环中的氮原子处具有氧基取代基的N-杂环化合物,以及上述化合物的混合物;和(d)任选地一种或多种选自以下的组分:碱-可溶性的粘合剂、着色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、无色染料、表面活性剂、无机填料和热聚合抑制剂;条件是,所述辐射敏感组合物不包含茂金属。
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