发明授权
- 专利标题: 疏水性二氧化硅粉末的制造法
- 专利标题(英): Process for producing hydrophobic silica powder
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申请号: CN200610100552.5申请日: 2006-07-03
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公开(公告)号: CN1891626B公开(公告)日: 2012-03-21
- 发明人: 吉武桂子 , 加藤博和
- 申请人: 日产化学工业株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 日产化学工业株式会社
- 当前专利权人: 日产化学工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 段承恩; 田欣
- 优先权: 194765/2005 2005.07.04 JP
- 主分类号: C01B33/146
- IPC分类号: C01B33/146
摘要:
本发明的课题在于提供一种利用简单的疏水化处理工序进行的疏水性二氧化硅粉末的制造方法。本发明通过提供下述方法解决了上述课题,即,一种疏水性二氧化硅粉末的制造方法,其特征在于,包括下述疏水化处理工序,即,向下述混合溶剂二氧化硅溶胶中,相对于亲水性胶体状二氧化硅的每100m2的表面积、添加0.1~20毫摩尔的式(1)所示的二硅氮烷化合物,在50~100℃的温度下进行加热、老化,由此获得疏水化处理胶体状二氧化硅的浆料状分散液,其中,所述混合溶剂二氧化硅溶胶是通过向含有比表面积为5.5~550m2/g的亲水性胶体状二氧化硅的水性二氧化硅溶胶中,相对于该水性二氧化硅溶胶的水、以0.12~2.5的质量比混合亲水性有机溶剂而获得的二氧化硅浓度为5~50质量%的混合溶剂二氧化硅溶胶,(R13Si)2NH (1)式中的各R1分别独立地选自碳原子数为1~6的烷基或苯基。
公开/授权文献
- CN1891626A 疏水性二氧化硅粉末的制造法 公开/授权日:2007-01-10
IPC分类: