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发明授权
CN1892440B 聚焦确定法，器件制造法和掩模 有权

聚焦确定法，器件制造法和掩模
摘要：
器件制造法使用的一个或多个聚焦设置的确定可通过印制多个具有不同聚焦设置的目标标记，并使用散射计，如离线的散射计，测量作为聚焦指示的目标标记的性质。
摘要（英）：

One or more focus settings for use in a device manufacturing method is determined by printing a plurality of target markers at different focus settings and using a scatterometer, e.g. off-line, to measure a property of the target markers that is indicative of focus.

公开/授权文献
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