发明授权
CN1900353B 可抽空的磁控管室
失效 - 权利终止
- 专利标题: 可抽空的磁控管室
- 专利标题(英): Evacuable magnetron chamber
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申请号: CN200610098884.4申请日: 2006-07-19
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公开(公告)号: CN1900353B公开(公告)日: 2012-01-04
- 发明人: 稻川真
- 申请人: 应用材料公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
- 代理商 赵飞
- 优先权: 11/184,679 2005.07.19 US
- 主分类号: C23C14/35
- IPC分类号: C23C14/35
摘要:
本发明公开了一种真空抽吸系统和与溅射反应器(50)相关的方法,溅射反应器(50)具有密封至靶(18)及其背板(20)的真空抽吸磁控管室(32)。主溅射室(14)真空密封至靶前部并被低温抽吸(26)。旁路管道(51)和阀门(54)连接磁控管室和主室。在旁路阀被关闭并且低温抽气泵被打开之前,连接至磁控管室的机械粗抽泵(34)通过旁路管道将主室抽吸至小于1托,并且之后,继续抽吸磁控管室以减小靶上的压差。只要压差超过例如20托的极限,例如当存在泄露或电气故障时,则跨过旁路阀连接的压差开关(58)立即打开旁路阀。旁路管道还用在通风过程中。
公开/授权文献
- CN1900353A 可抽空的磁控管室 公开/授权日:2007-01-24
IPC分类: