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发明授权
CN1906026B 半导体材料加工设备中的氧化钇涂覆的陶瓷部件及该部件的制造方法 有权

  • 专利标题： 半导体材料加工设备中的氧化钇涂覆的陶瓷部件及该部件的制造方法
  • 专利标题（英）： Yttria-coated ceramic components of semiconductor material processing apparatuses and methods of manufacturing the components
  • 申请号： CN200480040756.3
    申请日： 2004-12-09
  • 公开(公告)号： CN1906026B
    公开(公告)日： 2011-08-03
  • 发明人: C·常
  • 申请人： 兰姆研究公司
  • 申请人地址： 美国加利福尼亚
  • 专利权人： 兰姆研究公司
  • 当前专利权人： 兰姆研究公司
  • 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚
  • 代理机构： 上海胜康律师事务所
  • 代理商 周文强; 李献忠
  • 优先权： 10/737,917 2003.12.18 US
  • 国际申请： PCT/US2004/041206 2004.12.09
  • 国际公布： WO2005/062758 EN 2005.07.14
  • 进入国家日期： 2006-07-21
  • 主分类号： B32B9/04
  • IPC分类号： B32B9/04 ;  B32B19/00 ;  C23C16/00 ;  C03C25/68 ;  B05D3/02 ;  H05B6/00
半导体材料加工设备中的氧化钇涂覆的陶瓷部件及该部件的制造方法
摘要：
半导体材料加工设备中的氧化钇涂覆的陶瓷部件，包括衬底和衬底上的至少一层含有氧化钇的涂层。这些部件这样制造，将第一含氧化钇的涂层施用在陶瓷衬底上，该衬底可以是陶瓷材料生坯。将涂覆的生坯烧结。对该第一含氧化钇的涂层进行处理，去除因烧结而产生的附着的氧化钇颗粒。在另一个实施方案中，可以在第一含氧化钇的涂层上热喷涂第二含氧化钇的涂层，以覆盖这些颗粒。
摘要（英）：

Yttria-coated ceramic components of semiconductor material processing apparatuses include a substrate and at least one yttria-containing coating on the substrate. The components are made by applying a first yttria-containing coating on a ceramic substrate, which can be a green body of the ceramic material. The coated green body is sintered. The first yttria-containing coating can be treated to remove attached yttria particles resulting from the sintering. In another embodiment, a second yttria-containing coating can be thermally sprayed on the first yttria-containing coating to cover the particles.

公开/授权文献
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