发明授权
- 专利标题: 膜形成装置、膜形成方法及压电致动器的制造方法
- 专利标题(英): Film forming apparatus, film forming method and method for manufacturing piezoelectric actuator
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申请号: CN200610125620.3申请日: 2006-08-24
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公开(公告)号: CN1920094B公开(公告)日: 2010-05-12
- 发明人: 安井基博 , 明渡纯
- 申请人: 兄弟工业株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
- 申请人地址: 日本爱知县名古屋市
- 专利权人: 兄弟工业株式会社,独立行政法人产业技术综合研究所
- 当前专利权人: 独立行政法人产业技术综合研究所
- 当前专利权人地址: 日本爱知县名古屋市
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 钟强; 关兆辉
- 优先权: 2005-243130 2005.08.24 JP
- 主分类号: C23C24/00
- IPC分类号: C23C24/00 ; B41J2/16
摘要:
一种膜形成装置,具有:成膜室,用于进行成膜;喷射机构,通过在该成膜室内向基板喷射含材料粒子的气溶胶,在该基板上形成由前述材料粒子构成的膜;测量室,与前述成膜室连通;测量机构,测量前述测量室内的前述膜的厚度;压力调整机构,与前述成膜室及前述测量室连接,控制该成膜室及测量室的内压;传送带,在前述成膜室和前述测量室之间传送前述基板;以及隔断部,隔断前述成膜室和前述测量室。由此可保持测量室的内部清洁,不受气溶胶的污染,维持测量精度,在成膜工艺过程中,简单而又精确地测量膜厚,并向成膜条件反馈。
公开/授权文献
- CN1920094A 膜形成装置、膜形成方法及压电致动器的制造方法 公开/授权日:2007-02-28
IPC分类: