发明授权
CN1920592B 相位分布及相位校正方法和装置以及磁共振成像方法和装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 相位分布及相位校正方法和装置以及磁共振成像方法和装置
- 专利标题(英): Phase correction method and apparatus, magnetic resonance imaging method and apparatus
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申请号: CN200610121526.0申请日: 2000-10-23
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公开(公告)号: CN1920592B公开(公告)日: 2011-06-15
- 发明人: 三好光晴
- 申请人: GE医疗系统环球技术有限公司
- 申请人地址: 美国威斯康星州
- 专利权人: GE医疗系统环球技术有限公司
- 当前专利权人: GE医疗系统环球技术有限公司
- 当前专利权人地址: 美国威斯康星州
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 王忠忠
- 优先权: 301078/1999 1999.10.22 JP
- 分案原申请号: 001318799 2000.10.23
- 主分类号: G01R33/565
- IPC分类号: G01R33/565
摘要:
本发明涉及相位分布及相位校正方法和装置以及磁共振成像方法和装置;为了即使存在局部干扰时也能计算精确的相位图并执行这种相位校正,对通过磁共振成像得到的图像进行低通滤波(702),检测其滤波后的值与滤波前的值的比值不超过预定比值的像素位置(704),计算除这些点的像素数据外的相位分布,从邻近像素位置的相位来估计所述被排除点的相位而提供补偿,以便使相位图完整。
公开/授权文献
- CN1920592A 相位分布及相位校正方法和装置以及磁共振成像方法和装置 公开/授权日:2007-02-28