Invention Grant
CN1920592B 相位分布及相位校正方法和装置以及磁共振成像方法和装置
失效 - 权利终止
- Patent Title: 相位分布及相位校正方法和装置以及磁共振成像方法和装置
- Patent Title (English): Phase correction method and apparatus, magnetic resonance imaging method and apparatus
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Application No.: CN200610121526.0Application Date: 2000-10-23
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Publication No.: CN1920592BPublication Date: 2011-06-15
- Inventor: 三好光晴
- Applicant: GE医疗系统环球技术有限公司
- Applicant Address: 美国威斯康星州
- Assignee: GE医疗系统环球技术有限公司
- Current Assignee: GE医疗系统环球技术有限公司
- Current Assignee Address: 美国威斯康星州
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 王忠忠
- Priority: 301078/1999 1999.10.22 JP
- The original application number of the division: 001318799 2000.10.23
- Main IPC: G01R33/565
- IPC: G01R33/565

Abstract:
本发明涉及相位分布及相位校正方法和装置以及磁共振成像方法和装置;为了即使存在局部干扰时也能计算精确的相位图并执行这种相位校正,对通过磁共振成像得到的图像进行低通滤波(702),检测其滤波后的值与滤波前的值的比值不超过预定比值的像素位置(704),计算除这些点的像素数据外的相位分布,从邻近像素位置的相位来估计所述被排除点的相位而提供补偿,以便使相位图完整。
Public/Granted literature
- CN1920592A 相位分布及相位校正方法和装置以及磁共振成像方法和装置 Public/Granted day:2007-02-28
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