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发明授权
CN1954407B 曝光方法及组件制造方法 失效 - 权利终止

曝光方法及组件制造方法
摘要：
本发明公开了一种曝光方法及组件制造方法。其中曝光方法能将液体维持在期望状态下进行良好地曝光基板。在构成通过液体加以曝光的基板的基材的上面具有以感光材料被覆的有效区域，为避免在有效区域外侧的基材表面与液体接触，在有效区域外侧的基材表面的至少一部分以既定材料被覆，所述既定材料对该液体具有拨液性。本发明提供的一种基板，是透过液体而曝光，具备：形成有感光材料膜的区域、与被施以边缘清洗处理的区域；该边缘清洗处理后的区域具有拨液性。本发明提供的一种基板制造方法，用以制造透过液体而曝光的基板，包括：在构成该基板的基材上形成感光材料膜；及对该感光材料膜的至少一部分施以边缘清洗处理；该边缘清洗处理后的区域具有拨液性。
摘要（英）：

Disclosed is an exposure method wherein a substrate is adequately exposed to light while maintaining a liquid in a desired state. The upper surface of a base constituting a substrate to be exposed tolight via a liquid has an effective region which is covered with a photosensitive material. At least a part of the surface of the base around the effective region is covered with a first material so that the surface of the base is not in contact with the liquid around the effective region.

公开/授权文献
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