抗硫化银基涂层及其沉积方法和其使用
Abstract:
本发明提供了一种抗硫化银基涂层及其沉积方法和其使用。通过从涂层自由表面到10nm与1μm之间、优选100nm与1μm之间的深度形成银、氧和可能存在于材料中的一种或多种可氧化合金元素的浓度梯度,银基材料涂层的抗硫化性进一步提高。因此,该涂层包括由银基材料制成的一个主层和一个氧化薄膜的叠层。具有包括在10nm与1μm之间的厚度的薄膜具有从薄膜与主层之间的界面到薄膜自由表面之间降低的银浓度梯度。通过两个连续的物理气相沉积步骤且更具体而言通过磁控阴极溅射可以实现在支持物上沉积该涂层。
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