发明授权
- 专利标题： 光刻设备
- 专利标题（英）： Lithographic apparatus and device manufacturing method
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申请号： CN200610171860.7申请日： 2006-11-22
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公开(公告)号： CN1971429B公开(公告)日： 2012-07-04
- 发明人: H·詹森 , S·M·J·科尼利森 , S·N·L·唐德斯 , R·F·德格拉夫 , C·A·胡根达姆 , H·雅各布斯 , M·H·A·利德斯 , J·J·S·M·默坦斯 , B·斯特里夫柯克 , J·-G·C·范德图尔恩 , P·斯米茨 , F·J·J·詹森 , M·里彭
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰费尔德霍芬
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰费尔德霍芬
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王波波
- 优先权： 11/285,774 2005.11.23 US
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/027
摘要：
光刻设备及器件制造方法在浸没光刻设备中，通过减小衬底台上的间隙尺寸或区域和/或覆盖间隙来减少或防止浸没液体中的气泡形成。
公开/授权文献
- CN1971429A 光刻设备及器件制造方法 公开/授权日：2007-05-30
IPC分类:
