发明授权
CN1985999B 纳米抗菌处理方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 纳米抗菌处理方法
- 专利标题（英）： Nano antiseptic treating method
-
申请号： CN200510111638.3申请日： 2005-12-19
-
公开(公告)号： CN1985999B公开(公告)日： 2010-05-05
- 发明人: 邱汉培
- 申请人： 上海乐华企业管理有限公司
- 申请人地址： 上海市哈密路1233号4号楼3楼
- 专利权人： 上海乐华企业管理有限公司
- 当前专利权人： 上海乐华企业管理有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市哈密路1233号4号楼3楼
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 余岚
- 主分类号： A61L2/18
- IPC分类号： A61L2/18 ; A61L101/02
摘要：
本发明提供一种纳米抗菌处理方法，该方法包括以下步骤：a)提供包含纳米抗菌颗粒的分散液，b)使所述分散液以蒸气形式施加到待处理的物体上。本发明的纳米抗菌处理方法成本较低并且能得到抗菌耐久性强的经处理物品。
公开/授权文献
- CN1985999A 纳米抗菌处理方法 公开/授权日：2007-06-27
IPC分类:
