发明授权
CN1988107B 调整射束的均匀性的离子束照射装置和方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 调整射束的均匀性的离子束照射装置和方法
- 专利标题(英): Ion beam irradiating apparatus and method of adjusting uniformity of a beam
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申请号: CN200610168622.0申请日: 2006-12-19
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公开(公告)号: CN1988107B公开(公告)日: 2010-07-21
- 发明人: 池尻忠司
- 申请人: 日新意旺机械股份有限公司
- 申请人地址: 日本京都
- 专利权人: 日新意旺机械股份有限公司
- 当前专利权人: 日新意旺机械股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本京都
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 李涛; 钟强
- 优先权: 2005-366499 2005.12.20 JP
- 主分类号: H01J37/317
- IPC分类号: H01J37/317 ; H01L21/265
摘要:
离子束照射装置具有:射束剖面监视器14,其在目标8的附近测量离子束4在y方向中的射束电流密度分布;可移动屏蔽板组18a、18b,它们分别具有在y方向中安置的以便在该目标的位置的上游侧上横跨离子束路径彼此相对的多个可移动屏蔽板16,该可移动屏蔽板可在x方向中相互独立地移动;屏蔽板驱动设备22a、22b,它们以相互独立的方式在x方向中往复驱动构成该组的可移动屏蔽板16;以及屏蔽板控制设备24,其基于由该监视器14获得的测量数据控制屏蔽板驱动设备22a、22b以便相对增加对应于所测量的y方向射束电流密度相对大的位置的相对可移动屏蔽板16阻挡离子束4的量,从而提高在y方向中的射束电流密度分布的均匀性。
公开/授权文献
- CN1988107A 调整射束的均匀性的离子束照射装置和方法 公开/授权日:2007-06-27